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Alt 05.07.2007, 16:30   #2   Druckbare Version zeigen
ricinus Männlich
Moderator
Beiträge: 23.863
AW: SiCl4 - Gefäße reinigen

Zitat:
Zitat von maph Beitrag anzeigen
In einer abgeschlossenen Apparatur versuche ich SiCl4 durch verbrennen von Si unterm Chlorgasstrom herzustellen. Dabei setzt sich eine weiße Substanz (wohl irgend eine Si Verbindung) am Glaß ab, die ich durch Reinigung mit Wasser+Seife und danach Aceton nicht beseitigen kann. Hat jemand eine Idee, wie ich die Gefäße wieder sauber bekomme?
Die weisse Substanz wird SiO2 sein, welches sich bilden konnte, weil deine Apparatur vor Inbetriebnahme bzw das Chlorgas nicht völlig sauerstoffrei waren. Vor der Synthese muss die Apparatur wahrscheinlich längere Zeit mit Chlor gespült werden, um O2 restlos zu verdrängen. Wie schwer man SiO2 wieder von Glas runterkriegt, kannst du dir vorstellen. Mechanische Reinigung vulgo Scheuern führt wohl am ehesten zum Ziel.

lg
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"Old geochemists never die, they merely reach equilibrium." (Antonio C. Lasaga ?)
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