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Alt 09.03.2009, 14:54   #1   Druckbare Version zeigen
OliverKroll Männlich
Mitglied
Themenersteller
Beiträge: 7
Woraus besteht Fotolack zum Platinenätzen ?

Ich bin Informatik-Student und möchte mehrere Schaltungen mit fotobelichteten Platinen aufbauen. Dabei ist mir aufgefallen, daß wir zu dem Thema (vor langer Zeit) im Gymnasium praktisch keine Reaktionsgleichungen aufgeschrieben hatten.
Die Leiterbahnen bestehen aus Kupfer, und von mir wird Natriumperoxodisulfat als Ätzmittel verwendet - aber woraus besteht der Fotolack ?
In Wikipedia heißt es dazu unter "Fotolack":
"Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe für Fotolacke sind Polymere (z. B. PMMA (Plexiglas), PMGI) bzw. Epoxid-Harze (z. B. SU-8), Lösungsmittel wie Cyclopentanon oder Gamma-Butyrolacton, sowie eine fotoempfindliche Komponente. ..."
Aber es fehlt die fotoempfindliche Komponente.
Deshalb stelle ich die Frage hier: Woraus besteht der Fotolack von Platinen ?
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